半導体業界におけるクリーンルームの要件は以下の通りです:
1. 高い清浄度要件
半導体製造には非常に厳格なクリーン環境が必要です。クリーンルーム内の空気清浄度は、さまざまな半導体プロセスの要件に応じて異なり、一般的にClass 1（1立方フィートあたり0.1ミクロン以下の粒子が1個以下）からClass 100（1立方フィートあたり0.5ミクロン以下の粒子が100個以下）の基準を満たします。
2. 正確な温度と湿度の制御
半導体材料は温度と湿度に非常に敏感です。クリーンルームは、20〜25℃に厳密に制御する必要があり、相対湿度は40〜60％の範囲で、変動は±1℃および±5％RHを超えないようにする必要があります。
3. 信頼性と安定性のある電源供給と配電
クリーンルームは、安定した冗長電源を供給し、プロセス機器の正常で中断のない動作を保証するために、専用の電源供給および配電システムを必要とします。同時に、電力干渉を防ぐための保護およびフィルタリング機能が必要です。
4. 埃のない空気の合理的な流れ
クリーンルームは、埃のない空気ろ過および循環システムを備え、合理的な気流分布とデッドコーナーがないようにし、クリーンな空気が隅々まで行き渡るようにする必要があります。気流速度と空気圧も厳密に制御し、外部からの空気が逆流したり、乱れたりするのを防ぐ必要があります。
5. 完全な耐震設計
半導体プロセスの安定性要件を考慮し、クリーンルームは通常、プロセスに対する外部振動の影響を軽減するために、耐衝撃対策を採用する必要があります。基礎は十分に安定している必要があり、緩衝装置が装備されている必要があります。
6. 材料選択は埃がなく、汚染がないこと
クリーンルームの表面材料は、埃がなく、汚染がなく、粒子を発生させないものでなければなりません。ステンレス鋼、アルミニウム板、強化ガラスなどの材料が一般的に使用されます。埃の侵入を防ぐために、入り口にはエアカーテンを設置する必要があります。
